外媒披天台积电方案起诉前高管罗唯仁，原因是这位资深高管曾担任2纳米工艺研制，而Intel在吸引了罗唯仁之后让他担任的正是先进工艺制程，这让台积电适当忧虑它的最先进工艺泄密，更忧虑Intel因而成为它的竞争对手。

  需求留意的是罗唯仁曾在Intel作业，在Intel作业了18年，担任了Intel的芯片研制和制作作业，对芯片工艺有很深入的知道，台积电正是看到他在芯片技能方面的堆集，而在50多岁的年岁吸引了罗唯仁。

  罗唯仁在台积电作业了21年，直到75岁退休，而他在台积电的时分曾做到资深副总经理，参加或担任了从45纳米到2纳米工艺的研制，当然适当了解台积电的先进工艺研制，仅仅台积电没想到的是他到了这个年岁之后，并没正式退休，回身又参加了老东家Intel。

  Intel已更换了CEO，新任CEO陈立武也是一位华人，他在就任之后着重会快速推动先进工艺的研制，并且研制先进工艺不只是为了自家的芯片服务，还期望继续开展芯片代工事务，而前CEO基辛格恰恰是因为开展芯片代工事务导致巨额亏本而离任。

  此刻Intel找来罗唯仁意图不言自明，当然是期望依托罗唯仁在台积电作业时堆集的2纳米等先进工艺技能协助Intel加快2纳米工艺甚至更先进工艺的研制，以跟上台积电的脚步。

  现在全球芯片制作企业之中，台积电居于第一名，三星在技能方面居于第二名，不过共同以为三星从5纳米工艺以来，在技能方面如晶体管密度、功耗等方面都已落后于台积电，在3纳米工艺上又在良率方面落后，直接引发现在全球已没有芯片企业乐意选用三星的先进工艺了。

  Intel则是另一家最有实力应战台积电的芯片制作企业，其实Intel当年也曾遥遥抢先，一直到2014年量产14纳米工艺的时分依然抢先台积电2-3年，可是尔后Intel的工艺研制就逐步阻滞，而台积电则维持着1-2年晋级一代工艺的脚步，后来Intel更曾用参数证明台积电的7纳米工艺不过与Intel的10纳米工艺适当。

  高通等芯片企业也曾被传出在内部以为台积电的10纳米、7纳米等工艺存在灌水的问题，而业界人士更指出其实从28纳米以下就已显着改变了芯片工艺的命名规矩，从那时分起芯片工艺的多少纳米不再是栅极距离，而是等效工艺，便是每提高多少功能、下降多少功耗就算一代工艺。

  在5纳米之前，每一代工艺能提高两成到三成功能，而3纳米工艺出产的苹果A系处理器仅是提高了一成左右的功能，凸显出台积电的先进工艺水分或许更大了。

  不过芯片企业挑选了默许，缘由是更先进的工艺数字，有助于芯片公司进行营销，既然是一个双赢的局势，那何须非要较真呢？

  如此情况下，了解台积电研制技能途径的罗唯仁的确可以在必定程度上协助Intel加快先进工艺的研制，只要给Intel点拨怎么提高芯片工艺功能的办法，在芯片制作细节方面与台积电有差异，台积电就很难指证Intel侵权，这正是台积电企图阻挠罗唯仁参加Intel的原因。回来搜狐，检查更加多